幻影视界今天分享的是光刻机行业研究报告：《光刻机产业深度系列专题报告（一）：“进制程关键步骤，半导体设备明珠，光刻机市场迎国产化机遇》。

研究报告内容摘要如下

光刻是先进制程的关键步骤，半导体产业的基石。光刻是一种图像复制技术，在芯片制造过程中耗时最长，成本占比最高。作为先进制程的关键步骤，光刻分辨率决定了元件的最小特征尺寸与芯片的集成度。根据瑞利准则，可以通过缩短光源波长、增大数值孔径、减小光刻工艺因子提高光刻分辨率，进而提升芯片的性能。光刻技术作为半导体产业的基石，一般用工艺节点反应半导体行业发展水平，28nm 是工艺节点的重要分水岭，在性价比方面与下一 代工艺有着较大差异。

光刻机为半导体设备皇冠上的明珠，光学系统是其最重要的子系统之一。光刻机作为所有半导体制造设备中难度最高、最难突破的一环，占晶圆生产设备总市场的24%。从 UV 到 EUV，光刻机经历了五代发展和进化，每次光源的 改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。根据前瞻研究院数据， 光刻机由光源、曝光和双工作台三大核心系统组成，一台 EUV 光刻机内含有 超 10 万个精密零部件，全球供应商超过 5000 家。其中光学系统最重要的子 系统之一，约占整体光刻机成本的 30%。

全球光刻机千亿人民币市场规模且保持高速增长。市场规模方面，2011 年光 刻机市场规模 257 亿美元。根据 Market Intelligence，预计 2022-2028 年 全球光刻机市场规模 CAGR 有望达到 6%。出货量方面，ASML、Nikon、Canon 三大光刻机供应商占据了 99%以上市场份额，出货量稳步提升，2019-2023 年 CAGR 达 16.75%。按供应商分类，ASML 出货量增长最为明显，近五年光刻 机出货量 CAGR 达 18.33%。平均售价方面，EUV 光刻机单价增长明显，ASP 由 2018 年的 1.0 亿欧元提升至 2023 年的 1.7 亿欧元，其余价格较为稳定。

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